直接成像曝光机（直接成像法）

被称为“数字曝光”的印刷方法自18 世纪德国发明以来已经取得了长足的进步。如今，数字曝光可以在各种表面上打印文本和图像，包括书籍和T 恤。

这种印刷技术的变化不断激发新的创新。设计人员使用一种称为直接成像数字曝光的技术，通过将感光材料暴露在紫外(UV) 光下，快速、轻松地“打印”各种电子产品。

直接成像数字曝光现在可用于创建印刷电路板(PCB)、球栅阵列(BGA)、芯片级封装(CSP)、平板显示器、实时条形码标记和计算机直接制版印刷—— 印刷处理数字图像可以直接从计算机发送到印刷版。

与传统数字曝光技术相比，直接成像数字曝光具有众多优势，包括更大的材料灵活性、更低的成本和更快的打印速度。

TI 支持的直接成像数字曝光

在TI，我们的DLP 高速数字微镜器件(DMD) 为需要微米级精度的直接成像数字曝光开发人员提供了强大的工具，可在批量生产情况下实现快速曝光并降低运营成本。

通过使用可编程光控DLP技术，开发人员可以将图案直接曝光到光刻胶薄膜上，而无需接触掩模，从而降低了材料成本，提高了生产率，并能够实现图案的快速变化，使得该技术非常适合需要最小形状的情况因素需要两次曝光。

TI 高度灵活的芯片组架构还提供多系统控制和连接选项，例如电机同步触发器、传感器和其他外设。

DLP直接成像数字曝光典型系统框图

了解有关数字曝光的更多信息

我们拥有多种适合数字曝光应用的DLP 数字微镜器件。 DLP6500FLQ、DLP7000、DLP9000 和DLP9500 芯片系列均支持低至400 纳米的波长。

TI 为所有这些DMD 提供评估模块库，以及用于数字曝光的补充TI Designs 参考设计，其中包括电路原理图、布局布线文件、物料清单和测试报告。

TI Design 拥有独特的系统级DLP 开发板。由于集成了由超过400万个微镜制成的最高分辨率的DLP数字微镜器件DLP9000X——，该开发板具有最大的数据吞吐量；该开发板还配备了我们最快的数字控制器DLPC910，它支持高达每秒60 GB 的数据速率。 DLPC910 数字控制器还为设计人员提供了先进的像素控制，除了全帧输入功能之外，还支持随机行寻址。

审稿编辑：郭婷